技术编号:3365757
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及镀膜技术,尤其涉及一种溅镀设备。 背景技术现有的金属与塑料壳体的外观装饰镀膜,其制程可使用物理气相沉积(Wiysical Vapor Deposition, PVD),并利用镀膜室进行反应式溅镀,如以反应式磁控溅射镀膜方式的进行镀制。但是,由于该壳体的几何形状日趋复杂,故于镀膜制程时,所制膜层易产生膜厚不均所引起的物性不良,如耐磨程度及硬度不理想。有鉴于此,提供一种可使镀膜厚度均勻的溅镀设备实为必要。发明内容一种溅镀设备,其包括第一镀膜室、位于该...
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