技术编号:3367975
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种!^e基超导薄膜的制备方法,特别是一种新型后硒化处理制备 FeSe超导薄膜的方法,通过对FeS薄膜采用硒化处理制备1 薄膜。背景技术2008年初超导体LaFeAsCVxFx的发现引发了新型铁基超导体的研究新浪潮,主要原因不仅仅在于以往的铜基超导性能上面已有20年的时间没有更大突破,更重要的是铁基超导可能会让争议已久的超导理论机制有新的解释。同年合成了铁基超导体中结构最简单且不含As剧毒物质的β -FeSe,其超导转变温度Tc可以达到8K,加...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。