技术编号：3372242
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种化学镀的设备，尤其涉及无氰化学镍钯金的钯缸结构。 背景技术现有技术中的钯缸结构，是在镀钯腔内直接放置了加热管，如此一来，在最接近加热管位置的镀钯液温度最高，接近加热管的镀件，其镀钯速度最快，如此导致同一批次的镀 件产品，其镀钯的效果不同，存在很大差异，容易出现不良品或残次率，有的镀钯厚度不足， 有的的镀钯厚度过厚，造成极大的物资资源的浪费，造成镀件生产成本的上升。本发明基于上述现有技术的缺陷，开发出来一种新型的设有隔腔(又称之为夹 层)的...
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