技术编号:3373255
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及集成电路工艺,特别涉及一种定位销及包含该定位销的预清洗腔室。背景技术在半导体工艺中,在对晶圆做物理气相沉积前,需要清洗晶圆,以使晶圆在进行物 理气相沉积时,能够沉积一层均勻的膜层。在物理气相沉积机台中设置有预清洗腔室,所述 预清洗腔室包括腔体基座、托盘、定位销和石英盘,所述托盘固定在所述腔体基座上,所述 定位销置于所述托盘中间,所述石英盘覆盖在所述定位销上并与所述定位销的中心重合。 需要清洗的晶圆可通过机械手臂放置于石英盘上,然后进行清洗,此...
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