技术编号:3373791
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及制造含铟金属的方法,在该方法中,主要将制造ITO薄 膜时飞散的ITO的回收物、废弃的ITO靶、含有ITO的废料等进行溶解 而形成含铟溶液,由该含铟溶液制造含铟金属。背景技术铟是在光学材料、光电子材料、化合物半导体、焊料等各种领域中 被有效利用的金属,最近被广泛用作液晶显示器(LCD)、等离子显示器 (PDP)等的电极材料原料等,但是由于铟昂贵,所以要求从含铟的回收物、 废弃物等中对铟进行再利用。由铟-锡氧化物(ITO)形成的ITO薄膜同时具有高的...
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