技术编号:3374866
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。有机金属化合物及其用法发明领域本发明涉及有机金属化合物、生产有机金属化合物的方法,以及由有机金属前体化合物生产薄膜或涂层的方法。技术背景半导体工业目前正考虑各种金属的薄膜在各种各样领域中 的应用。多种有机金属络合物已被评估为形成这些薄膜的潜在前体。目 前,工业上需要研发新化合物和挖掘其作为薄膜沉积前体用的潜力。由 于对薄膜更高均 一性和共形性日益提高的需求,从物理气相沉积(PVD) 到化学气相沉积(C VD)和原子层沉积(ALD)方法的工业变革导致对适合 ...
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