技术编号：33782349
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本公开的实施例主要涉及集成电路领域，并且更具体地，涉及光源优化方法、设备和介质。背景技术.光刻工艺是主导集成电路线宽的重要工艺之一。在先进半导体工艺节点中，光刻的工艺参数在很大程度上影响了光刻成像的质量。光源在光刻工艺中具有重要影响。光源掩模优化(smo)是一种分辨率增强技术(resolution enhancement technology，ret)。在smo过程中，需要进行光源优化(so)，以改善工艺窗口。发明内容.在本公开的第一方面中，提供了一种光源优化方法。在该方法中，获取测试图...
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