技术编号:3379425
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于热处理设备,具体涉及一种气相沉积炉用三级过滤系统。 背景技术CVD化学气相沉积炉是利用气相沉积的原理,将参与化学反应的物质,加热到一定工艺温度,在真空泵抽气系统产生的引力作用下,引至沉积室进行反应、沉积,生成新的固态物质。为了得到工艺要求的沉积厚度,此反应过程一般需连续工作20天左右。沉积过程中,如有中断现象发生,就会在沉积面上产生瑕疵,影响产品质量。在沉积过程中,大部分的生成物会沉积在沉积室内,但还有相当数量的固态分子,会随着气流,沿着管道...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。