技术编号:3379792
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统,属于太阳能电池生产制造。背景技术PECVD镀膜系统是太阳能电池片生产过程中的关键设备。PECVD技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成工艺所需要的固态薄膜,起到减反射和钝化太阳电池表面的作用。目前有多种方式实现PECVD技术,其中微波间接法实现等...
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