技术编号:3382344
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种镀膜玻璃生产的磁控溅射设备,尤其是一种带缓冲室膜玻璃生产磁控溅射设备。背景技术镀膜玻璃在建筑、交通等领域有着广泛的用途,原有的生产镀膜玻璃的磁控溅射设备,由预抽室、电解质镀层镀膜室、导电镀层镀膜室组成,玻璃经预抽室抽真空后直接进入电解质镀层镀膜室,电解质镀层镀膜室内的气体真空度难以达到理想状态,所生产的镀膜玻璃均匀性较差,而低辐射膜玻璃、阳光控制膜玻璃、单向透视玻璃、高反射镜面玻璃等对均匀性要求较高,原有的生产镀膜玻璃的磁控溅射设备不能满...
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