技术编号:33830289
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及试片处理技术领域,具体是用于试片处理及具监控记录功能之半封闭型装置。背景技术.tem样品制备时,需进行裂片并将其目标区域上保护层(统称tem前处理)。由于tem样品偏小,且不同样品肉眼判断大同小异。在其样品由wafer裂片时处于一个开放空间下进行。样品裂片时手部需施加压力,样品容易有弹飞的风险,进而遗失,从而给人们造成损失。实用新型内容.本实用新型的目的在于提供用于试片处理及具监控记录功能之半封闭型装置,以解决上述背景技术中提出的问题。.本实用新型的技术方案是:用于试片处...
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