技术编号：3383125
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空离子镀膜，具体涉及一种LaB6空心阴极电子枪多功能离子镀膜机。背景技术目前在真空离子镀膜行业已有多弧与磁控溅射相组合的离子镀膜机。现有的多弧与磁控溅射复合离子镀膜机虽在一定程度上改善了膜层表面的粗糙度以及提高了表面的光亮度，但并没有从根本上解决多弧离子镀膜层中的液滴及大颗粒问题，并且磁控溅射离化率低，膜层与基片之间结合力差，在实际应用方面存在许多须待改进的地方。实用新型内容本实用新型针对现有技术的不足，提供一种可明显减少和细化多弧离子镀表...
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