专利名称：一种LaB<sub>6</sub>空心阴极电子枪多功能离子镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及真空离子镀膜技术领域，具体涉及一种LaB6空心阴极电子枪多功能离子镀膜机。
背景技术：
目前在真空离子镀膜行业已有多弧与磁控溅射相组合的离子镀膜机。现有的多弧与磁控溅射复合离子镀膜机虽在一定程度上改善了膜层表面的粗糙度以及提高了表面的光亮度，但并没有从根本上解决多弧离子镀膜层中的液滴及大颗粒问题，并且磁控溅射离化率低，膜层与基片之间结合力差，在实际应用方面存在许多须待改进的地方。
实用新型内容本实用新型针对现有技术的不足，提供一种可明显减少和细化多弧离子镀表面大颗粒、提高磁控溅射离子镀离化率、生产效率高的LaB6空心阴极电子枪多功能离子镀膜机。本实用新型由LaB6空心阴极电子枪、八角形真空室、上集束线圈、下集束线圈、辅助阳极、长方形法兰、多弧阴极靶、磁控溅射靶、抽气口、高阀、分子泵、粗抽泵和维持泵构成。La^5空心阴极电子枪设置在八角形真空室上部中心处，上集束线圈设置在八角形真空室上部边缘，下集束线圈设置在八角形真空室下部边缘；八角形真空室通过抽气口与高阀相连接，高阀底部与分子泵连接，分子泵前级与维持泵连接，炉体底部与粗抽泵连接。八角形真空室侧表面其中六个面设置有长方形法兰，在长方形法兰上设置有孔， 可根据需要配置装有多弧阴极靶或磁控溅射靶的模板，装拆便利，八角形真空室侧表面的其余两个面设置有观察窗及抽气孔；八角形真空室内部设置有工件转架和加热器，八角形真空室内底部中心处设置有辅助阳极。多弧阴极靶为小圆形靶或柱形靶、长方形靶，磁控溅射靶为长方形靶或柱形靶。工作时，在加热阶段，利用LaB6空心阴极电子枪和加热器对工件加热，在轰击阶段利用被LaB6空心阴极电子枪离化的Ar气离子对工件进行离子清洗；多弧离子镀膜阶段， La^5空心阴极电子枪与多弧阴极靶并用，通过被1^ 空心阴极电子枪离化的气体对工件表面膜层不断撞击，细化镀层表面大颗粒；磁控溅射镀膜阶段，LaB6空心阴极电子枪与磁控溅射靶并用，可提高靶材离化率。上、下集束线圈的作用是将电子枪发射的电子束聚焦到辅助阳极上，同时还可以起到磁搅拌作用，加速离子运动，提高离子撞击力及撞击几率。本实用新型改善了离子镀镀膜产品品质，提高了生产效率，具有较好的经济效益， 利于推广。
图1是本实用新型的整体结构示意图；图2是本实用新型的整体结构俯视图；图3是本实用新型的设备原理图。
3[0012]图中1是LaB6空心阴极电子枪，2是八角形真空室，3是上集束线圈，4是下集束线圈，5是长方形法兰，6是工件转架，7是多弧阴极靶，8是磁控溅射靶，9是辅助阳极，10是抽气口，11是高阀，12是分子泵，13是粗抽泵，14是维持泵。
具体实施方式
以下结合附图以最佳实施例对本实用新型做进一步详细说明本实用新型由La^5空心阴极电子枪(1)、八角形真空室O)、上集束线圈(3)、下集束线圈(4)、辅助阳极(9)、长方形法兰(5)、多弧阴极靶(7)、磁控溅射靶(8)、抽气口(10)、 高阀(11)、分子泵(12)、粗抽泵(13)和维持泵(14)构成。La^5空心阴极电子枪(1)设置在八角形真空室( 上部中心处，上集束线圈C3)设置在八角形真空室( 上部边缘，下集束线圈(4)设置在八角形真空室(2)下部边缘；八角形真空室(2)通过抽气口(10)与高阀 (11)相连接，高阀(11)底部与分子泵(1 连接，分子泵(1 前级与维持泵(14)连接，炉体底部与粗抽泵(1 连接。八角形真空室( 侧表面其中六个面设置有长方形法兰(5)，在长方形法兰(5)上设置有孔，可根据需要配置装有多弧阴极靶(7)或磁控溅射靶(8)的模板，装拆便利，八角形真空室( 侧表面的其余两个面设置有观察窗及抽气孔；八角形真空室O)内部设置有工件转架(6)和加热器，八角形真空室O)内底部中心处设置有辅助阳极(9)。多弧阴极靶(7)为小圆形靶或柱形靶、长方形靶，磁控溅射靶(8)为长方形靶或柱形靶。工作时，在加热阶段，利用LaB6空心阴极电子枪(1)和加热器对工件加热，在轰击阶段利用被La^5空心阴极电子枪(1)离化的Ar气离子对工件进行离子清洗；多弧离子镀膜阶段，La^5空心阴极电子枪⑴与多弧阴极靶(7)并用，通过被La^5空心阴极电子枪⑴ 离化的气体对工件表面膜层不断撞击，细化镀层表面大颗粒；磁控溅射镀膜阶段，LaB6空心阴极电子枪(1)与磁控溅射靶(8)并用，可提高靶材离化率。上、下集束线圈(3、4)将电子束聚焦到辅助阳极(9)上，还可以起到磁搅拌作用，加速离子运动，提高离子撞击力及撞击几率。
权利要求1.一种La^5空心阴极电子枪多功能离子镀膜机，其特征在于它由1^动6空心阴极电子枪(1)、八角形真空室(2)、上集束线圈(3)、下集束线圈(4)、辅助阳极(9)、长方形法兰(5)、多弧阴极靶(7)、磁控溅射靶(8)、抽气口 (10)、高阀(11)、分子泵(12)、粗抽泵(13)和维持泵 (14)构成，La^5空心阴极电子枪(1)设置在八角形真空室(2)上部中心处，上集束线圈(3) 设置在八角形真空室( 上部边缘，下集束线圈(4)设置在八角形真空室( 下部边缘；八角形真空室⑵通过抽气口(10)与高阀(11)相连接，高阀(11)底部与分子泵(12)连接， 分子泵(1 前级与维持泵(14)连接，炉体底部与粗抽泵(1 连接；八角形真空室(2)侧表面其中六个面设置有长方形法兰(5)，在长方形法兰( 上设置有孔，可根据需要配置装有多弧阴极靶(7)或磁控溅射靶(8)的模板，八角形真空室( 侧表面的其余两个面设置有观察窗及抽气孔；八角形真空室O)内部设置有工件转架(6)和加热器，八角形真空室(2)内底部中心处设置有辅助阳极(9)。
2.如权利要求1所述的一种LaB6空心阴极电子枪多功能离子镀膜机，其特征在于所述的多弧阴极靶(8)为圆形、长方形或柱形靶
3.如权利要求1所述的一种LaB6空心阴极电子枪多功能离子镀膜机，其特征在于所述的磁控溅射靶(9)为长方形或柱形靶。
专利摘要本实用新型涉及一种LaB6空心阴极电子枪多功能离子镀膜机。现有复合离子镀膜机没有解决膜层中的大颗粒问题，离化率低。本实用新型由LaB6空心阴极电子枪、八角形真空室、集束线圈、辅助阳极、长方形法兰、多弧阴极靶、磁控溅射靶、抽气口、高阀、分子泵、粗抽泵和维持泵构成。八角形真空室上部中心处设置有LaB6空心阴极电子枪，上下部边缘设置有集束线圈，真空室通过抽气口与高阀相连，高阀底部与分子泵相连，分子泵前级与维持泵相连，炉体底部与粗抽泵相连。真空室侧面六个面设置有长方形法兰，其余两个面设置有观察窗和抽气口；真空室内部设置有工件转架和加热器，底面中心处设置有辅助阳极。改善了离子镀镀膜产品品质，提高了生产效率。
文档编号C23C14/35GK202201959SQ20112028604
公开日2012年4月25日 申请日期2011年7月30日 优先权日2011年7月30日
发明者中山弘建 申请人:中山弘建