专利名称：真空电子枪镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种镀膜机，尤其涉及一种真空电子枪镀膜机。
背景技术：
目前，真空电子枪镀膜机是在固体表面进行蒸发镀氧化硅、氧化钛等反射膜的 专用设备，现有技术的镀膜机包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中 的电子束蒸发装置和工件转架，镀膜材料装在电子束蒸发装置的坩埚中，镀膜产品装在 工件转架上，通过电子束蒸发装置中的电子源(电子枪)产生的高能电子束并在磁场的作 用下轰击坩埚中的镀膜材料，通过动能对热能的转换产生的高温使镀膜材料溶化并蒸发 到镀膜产品的表面上。现有技术的镀膜机存在膜层不牢固的缺点。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题就是克服现有技术的不足，提供一种膜层牢固 的真空电子枪镀膜机。本实用新型所采用的技术方案是真空电子枪镀膜机，包括真空抽气系统、真 空室、真空室门、设置在真空室中的电子束蒸发装置和工件转架，电子束蒸发装置中设 有电子枪和装有镀膜材料的坩埚，镀膜产品装在工件转架上，在真空室中设有荷能粒子 装置和铝棒，荷能粒子装置产生的离子对铝棒和工件转架上的镀膜产品进行轰击。本实用新型有益的技术效果是由于在真空室中设有荷能粒子装置和铝棒，荷 能粒子装置产生的离子对铝棒进行轰击，对镀膜产品表面进行电离子清洗，可提高膜层 的结合力；同时荷能粒子装置产生的离子对工件转架上的镀膜产品进行轰击，从而引起 镀膜产品表面原子从母体中逸出的现象，使膜层结合的更加牢固。
图1 :为本实用新型的结构示意图；图2:为图1的左视图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述如图1-2所示，真空电子枪镀膜机，包括真空抽气系统、真空室1、真空室门 9、设置在真空室1中的电子束蒸发装置2和工件转架3，电子束蒸发装置2中设有电子 枪和装有镀膜材料的坩埚，镀膜产品装在工件转架3上，在真空室1中设有荷能粒子装 置(图中未示出)和铝棒8，荷能粒子装置产生的离子对铝棒8和工件转架3上的镀膜产 品进行轰击。所述的真空抽气系统包括低真空抽气装置和高真空抽气装置，低真空抽气 装置包括罗茨真空泵5和机械真空泵7，高真空抽气装置包括维持真空泵6和扩散真空泵 4。其工作过程如下先开启罗茨真空泵5和机械真空泵7，进行低真空抽气，待真空度抽至一定程度时，进入高真空抽气，由维持真空泵6和扩散真空泵4进行抽气，待真空室 1的真空度抽气到9.0X10_3Pa时，荷能粒子装置产生的离子(通常为气体正离子)对铝棒 8进行轰击，对镀膜产品表面进行电离子清洗，同时荷能粒子装置产生的离子对工件转架 3上的镀膜产品进行轰击，从而引起镀膜产品表面原子从母体中逸出的现象，然后利用电 子束蒸发装置2对装在工件转架3上的镀膜产品进行蒸发镀膜。
权利要求1.真空电子枪镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的 电子束蒸发装置和工件转架，电子束蒸发装置中设有电子枪和装有镀膜材料的坩埚，镀 膜产品装在工件转架上，其特征在于在真空室中设有荷能粒子装置和铝棒，荷能粒子 装置产生的离子对铝棒和工件转架上的镀膜产品进行轰击。
2.根据权利要求1所述的真空电子枪镀膜机，其特征在于所述的真空抽气系统包 括低真空抽气装置和高真空抽气装置。
3.根据权利要求1或2所述的真空电子枪镀膜机，其特征在于所述的低真空抽气装 置包括罗茨真空泵和机械真空泵，高真空抽气装置包括维持真空泵和扩散真空泵。
专利摘要本实用新型涉及一种真空电子枪镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的电子束蒸发装置和工件转架，电子束蒸发装置中设有电子枪和装有镀膜材料的坩埚，镀膜产品装在工件转架上，在真空室中设有荷能粒子装置和铝棒，荷能粒子装置产生的离子对铝棒和工件转架上的镀膜产品进行轰击。其有益的技术效果是由于在真空室中设有荷能粒子装置和铝棒，荷能粒子装置产生的离子对铝棒进行轰击，对镀膜产品表面进行电离子清洗，可提高膜层的结合力；同时荷能粒子装置产生的离子对工件转架上的镀膜产品进行轰击，从而引起镀膜产品表面原子从母体中逸出的现象，使膜层结合的更加牢固。
文档编号C23C14/30GK201793721SQ20102053948
公开日2011年4月13日 申请日期2010年9月17日 优先权日2010年9月17日
发明者林锡强, 陈孝田 申请人:温州市佳能真空电镀设备科技有限公司