一种改进型真空镀膜机的制作方法

文档序号:10294014
一种改进型真空镀膜机的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于滤光片镀膜制造技术领域,具体地说,尤其涉及一种改进型真空镀膜机。
【背景技术】
[0002]在滤光片镀膜生产过程中,真空镀膜室的真空洁净度是一项重要的生产工艺技术指标,真空洁净度就是指在真空环境中某些残余物质分子的多少,它直接影响到镀膜产品的质量,对于因油分子而影响真空洁净度的主要因素则来自真空机组的油扩散栗,虽然油扩散栗机组具有:抽气能力大、对惰性气体抽速适应范围宽,且结构简单、使用寿命长、容易获得高真空等优点,同时油扩散栗机组使用时也存在真空洁净度不稳定,高温环境下设备冷却不佳,导致油蒸汽返流的弱点。真空洁净度不稳定,滤光片在真空镀膜过程中因油蒸汽返流污染会造成成品率下降,已不能满足现代企业科研生产品质上的更高要求,油蒸汽返流污染所造成废次品增加,已经成为提高产品质量的瓶颈。
[0003]如何有效的控制真空镀膜机的油蒸汽回返现象,保证产品质量的稳定性,一直是衡量真空镀膜机组工作质量好坏的重要技术依据,油蒸汽的返流现象是指高真空扩散栗液蒸汽分子从蒸汽喷射流中分离并与气体,栗体器壁碰撞后向高真空端运动的反迀移分子流,造成真空环境污染,影响成膜核心的密度和沉积原子的迀移和附着,引起薄膜的磁、电、超声等性能呈现无规则型和重复性不佳,导致产品的品质因素下降。

【发明内容】

[0004]本实用新型公开一种改进型真空镀膜机,用于解决传统镀膜机洁净度不稳定,基片在真空镀膜过程中因油蒸汽返流污染而造成成品率下降,不能满足现代公司科技生产品质要求的问题。
[0005]本实用新型是通过以下技术方案实现的:
[0006]—种改进型真空镀膜机,包括真空镀膜室、油扩散栗,所述真空镀膜室经放气阀、高真空阀、冷阱与油扩散栗相连接,所述放气阀与高真空阀间设有预抽阀,所述预抽阀一方面经前级阀与油扩散栗相连,另一方面经泄气阀与机械真空栗相连接,所述冷阱的出口经循环水管甲延伸到循环水箱内,所述循环水箱内设有带有水栗的循环水管乙,所述循环水管乙与盛放在半导体制冷水槽的热交换器相连,所述热交换器的另一端经循环水管丙与所述冷阱的进口相连。
[0007]所述热交换器的外径为100mm、长度为400_,由直径8mm紫铜管盘绕而成。
[0008]所述热交换器两端分别经管道快速接头与循环水管乙、循环水管丙相连。
[0009]所述半导体制冷水槽为小型半导体低温冰箱,内装有百分之四十的水与酒精混合液。
[0010]所述循环水管甲、循环水管乙、循环水管丙均为聚氨酯塑料管。
[0011 ]与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
[0012]本实用新型采用建立小型低温循环水系统的方法来对扩散栗冷阱进行独立冷却,小型低温循环水系统主要由循环水箱、半导体制冷水槽组成,使整个低温循环水系统构成一个闭路循环水系统,该循环水系统通过在实际生产过程中的应用,使扩散栗冷阱温度降低并保持在5°C左右,由于扩散栗冷阱温度的降低,使得真空镀膜机的油蒸汽回返率得以下降,排除了环境温度对设备运行的干扰因素,提高了产品镀膜的真空洁净度,使真空镀膜机在生产技术精准度要求较高的电子镀膜产品质量方面有了明显提高,保障了公司科研生产的发展需要,本实用新型应用广泛,可广泛应用于滤光片镀膜制造技术领域。
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型结构不意图。
[0014]图中:1.真空镀膜室;2.油扩散栗;3.放气阀;4.高真空阀;5.冷阱;6.预抽阀;7.前级阀;8.泄气阀;9.机械真空栗;10.循环水管甲;11.循环水箱;12.水栗;13.循环水管乙;14.半导体制冷水槽;15.热交换器;16.循环水管丙。
【具体实施方式】
[0015]下面结合附图对本实用新型进一步说明:
[0016]—种改进型真空镀膜机,包括真空镀膜室1、油扩散栗2,所述真空镀膜室I经放气阀3、高真空阀4、冷阱5与油扩散栗2相连接,所述放气阀3与高真空阀4间设有预抽阀6,所述预抽阀6—方面经前级阀7与油扩散栗2相连,另一方面经泄气阀8与机械真空栗9相连接,所述冷阱5的出口经循环水管甲10延伸到循环水箱11内,所述循环水箱11内设有带有水栗12的循环水管乙13,所述循环水管乙13与盛放在半导体制冷水槽14的热交换器15相连,所述热交换器15的另一端经循环水管丙16与所述冷阱5的进口相连。
[0017]所述热交换器15的外径为100mm、长度为400mm,由直径8mm紫铜管盘绕而成。
[0018]所述热交换器15两端分别经管道快速接头与循环水管乙13、循环水管丙16相连。
[0019]所述半导体制冷水槽14为小型半导体低温冰箱,内装有百分之四十的水与酒精混合液。
[0020]所述循环水管甲10、循环水管乙13、循环水管丙16均为聚氨酯塑料管。
[0021]由返油蒸汽导致镀膜元件质量缺陷,往往反映在气候温度的变化上,冬季镀膜机油蒸汽回返现象处于正常值,而由油蒸汽影响镀膜质量的现象往往发生在气候炎热的夏季,这是因为冷却循环水水温升高,导致扩散栗壁表面冷却变差,使碰撞在扩散栗表面的油蒸汽分子不凝聚,沿栗壁下流,此处油层表面温度大大高于栗壁温度,极易产生再蒸发。另一方面在镀膜过程中随着镀膜室真空度的提高和压强的下降,真空管道中的气体分子运动呈现分子流状态。若扩散栗冷却效果不佳或栗口冷阱冷却不好,造成油蒸汽分子从前级反扩散回真空室的几率增多,给镀膜元件带来污染。要排除这些不利因素,首先要有好的栗壁冷却效果,较低的扩散栗口冷阱温度,从而达到使返流油蒸汽分子在冷阱人字型的通道中与阱壁碰撞时被冷阱捕捉几率提高,使油蒸汽分子被滞阻在扩散栗口内,当形成一定密度的分子量后,一部分凝聚顺栗壁流向栗底,一部分被扩散栗的定向喷射气流逐级撞向栗底聚积,部分不凝聚油气分子和其它混合气体分子密度达到机械栗口压强时被机械栗抽走。从以上分折的原理中可以得出结论:扩散栗冷阱冷却效果的好坏,直接影响到在真空镀膜过程中油蒸汽分子的返流率高低。
[0022]本实用新型采用建立小型低温循环水系统的方法来对扩散栗冷阱进行独立冷却,小型低温循环水系统主要由循环水箱、半导体制冷水槽组成,使整个低温循环水系统构成一个闭路循环水系统,该循环水系统通过在实际生产过程中的应用,使扩散栗冷阱温度降低并保持在5°C左右,由于扩散栗冷阱温度的降低,使得真空镀膜机的油蒸汽回返率得以下降,排除了环境温度对设备运行的干扰因素,提高了产品镀膜的真空洁净度,使真空镀膜机在生产技术精准度要求较高的电子镀膜产品质量方面有了明显提高,保障了公司科研生产的发展需要,本实用新型应用广泛,可广泛应用于滤光片镀膜制造技术领域。本实用新型工作程序是先打开半导体低温冰箱电源开关,将温度控制设置在零度,启动水栗开关,循环水流经到半导体制冷水槽14的热交换器15中,降温后流回循环水箱11形成了一个闭合循环水系统。
[0023]综上所述,仅为本实用新型的较佳实施例而已,并非用来限定本实用新型实施的范围,凡依本实用新型权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰,均应包括于本实用新型的权利要求范围内。
【主权项】
1.一种改进型真空镀膜机,包括真空镀膜室(I)、油扩散栗(2),其特征在于:所述真空镀膜室(I)经放气阀(3)、高真空阀(4)、冷阱(5)与油扩散栗(2)相连接,所述放气阀(3)与高真空阀(4)间设有预抽阀(6),所述预抽阀(6) —方面经前级阀(7)与油扩散栗(2)相连,另一方面经泄气阀(8)与机械真空栗(9)相连接,其特征在于:所述冷阱(5)的出口经循环水管甲(10)延伸到循环水箱(11)内,所述循环水箱(11)内设有带有水栗(12)的循环水管乙(13),所述循环水管乙(13)与盛放在半导体制冷水槽(14)的热交换器(15)相连,所述热交换器(15)的另一端经循环水管丙(16)与所述冷阱(5)的进口相连。2.根据权利要求1所述的一种改进型真空镀膜机,其特征在于:所述热交换器(15)的外径为100mm、长度为400_,由直径8mm紫铜管盘绕而成。3.根据权利要求1或2所述的一种改进型真空镀膜机,其特征在于:所述热交换器(15)两端分别经管道快速接头与循环水管乙(13)、循环水管丙(16)相连。4.根据权利要求1所述的一种改进型真空镀膜机,其特征在于:所述半导体制冷水槽(14)为小型半导体低温冰箱,内装有百分之四十的水与酒精混合液。5.根据权利要求1所述的一种改进型真空镀膜机,其特征在于:所述循环水管甲(10)、循环水管乙(13)、循环水管丙(16)均为聚氨酯塑料管。
【专利摘要】本实用新型公开了一种改进型真空镀膜机,属于滤光片镀膜制造技术领域,解决了传统镀膜机洁净度不稳定,基片在真空镀膜过程中因油蒸汽返流污染所造成的成品率下降,不能满足现代公司科技生产品质要求的问题。主要包括真空镀膜室、油扩散泵、机械真空泵、热交换器,真空镀膜室经放气阀、高真空阀、冷阱与油扩散泵相连接。本实用新型提高了产品镀膜的真空洁净度,使真空镀膜机在生产技术精准度要求较高的电子镀膜产品质量方面有了明显提高,保障了公司科研生产的发展需要,本实用新型应用广泛,可广泛应用于滤光片镀膜制造技术领域。
【IPC分类】C23C14/22
【公开号】CN205205221
【申请号】CN201520872357
【发明人】杨志民, 王军
【申请人】江苏星浪光学仪器有限公司
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年11月4日
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