技术编号：3388668
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种镀膜设备，特别是涉及一种镀膜设备的加热器。背景技术在一般用于执行气相沉积成膜制程的镀膜设备，主要是包含一个中空的反应腔、一个安装在该反应腔的电极、一个装设在反应腔且与该电极上下间隔的加热器。在镀膜时，是将一个待镀物放置在该加热器上，使该待镀物可达到镀膜制程的最佳温度，并在该反应腔中填充用于镀膜的气体，接着利用该电极对反应腔中的气体施以高电压，使气体转为游离态，而为了引导离子可更有效率地沉积在该待镀物的表面以形成薄膜，还会在该加热器上施以偏...
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