专利名称：镀膜设备的加热器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种镀膜设备，特别是涉及一种镀膜设备的加热器。
背景技术：
在一般用于执行气相沉积成膜制程的镀膜设备，主要是包含一个中空的反应腔、一个安装在该反应腔的电极、一个装设在反应腔且与该电极上下间隔的加热器。在镀膜时，是将一个待镀物放置在该加热器上，使该待镀物可达到镀膜制程的最佳温度，并在该反应腔中填充用于镀膜的气体，接着利用该电极对反应腔中的气体施以高电压，使气体转为游离态，而为了引导离子可更有效率地沉积在该待镀物的表面以形成薄膜，还会在该加热器上施以偏压或直接接地，使该加热器与电极间形成电压差，达到提高镀膜速度的目的。当气体转为游离态后，会在该反应腔内产生具侵蚀性的酸或碱性离子，而该加热器的表面是利用阳极处理后形成氧化物，以抵抗其侵蚀。另一方面，在镀膜过程中，该反应腔内残留的离子会沉积在该加热器的表面，而影响导热性与导电性，因此为了移除加热器表面累积的杂质，一般是将该加热器表面磨除一部分，再施以阳极处理重建，然而磨除的过程会耗损该加热器的厚度，而减少该加热器的使用寿命。
发明内容本实用新型的目的在于提供一种可提高使用寿命的镀膜设备的加热器。本实用新型镀膜设备的加热器，可安装在一个反应腔内，并包含一个与该反应腔组装的支架、一个组装在该支架上的承物座，及一个可发热地安装在该支架内并传导地加热该承物座的加热件；该承物座包括一个基体，及一个披覆在该基体上的熔射层，该熔射层具有一个朝上且粗糙地凹凸的承物面。本实用新型镀膜设备的加热器的熔射层的厚度介于5微米至500微米间。本实用新型镀膜设备的加热器的承物面的中心线平均粗度介于0. I微米至40微米间。本实用新型的有益效果在于该熔射层是以熔射的方式形成在该基体上，因此在清理该加热器的表面时，是在磨除表面杂质后，再以熔射的方式在该基体上覆盖另一层熔射层，而可减少该加热器的厚度的损耗，进而提闻该加热器的使用寿命。
图I是一个部分剖视示意图，主要显示本实用新型镀膜设备的加热器的较佳实施例，及其安装在一个反应腔内的情形；图2是一个立体示意图，主要显示该第一较佳实施例。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明。、[0012]参阅图1、2，本实用新型镀膜设备的加热器的较佳实施例，可装设在一个镀膜设备I的一个反应腔11内，并供一个待镀物12放置。该加热器10，包含一个上下延伸的支架
2、一个组装在该支架2顶端的承物座3，及一个装设在该支架2内的加热件4。该支架2是呈长形管状，并且与该反应腔11组装。所述承物座3呈矩形，并具有一个基体31，及一个披覆在该基体31上的熔射层32。该熔射层32具有一个朝上的承物面321。所述承物面321呈粗糙地不规则凹凸。本实施例是利用熔射(thermal spray)的方 法，将高温而熔化的陶瓷粉末附着在该基体31表面，进而形成该熔射层32。该加热件4可发热，并将热能传至该承物座3的承物面321以加热该待镀物12，而本实施例的加热件4是利用线圈产生热能。在镀膜时，是将该待镀物12置放在该承物座3上，并且该加热件4会对该承物座3进行加热，而使该待镀物12的温度达到镀膜制程所需的温度，并将镀膜气体送入该反应腔11内，再施以高频电压使镀膜气体转为游离状态，此外，可在该承物座3外加偏压，使反应腔11内的离子受电场牵引而朝该待镀物12移动，进而沉积在该待镀物12的表面形成薄膜。需要说明的是，为达到较佳的导热与镀膜效果，该熔射层32的厚度以介于5微米(iim)至500微米最佳,所选用的材质为氧化铝、氧化钇、氧化锆、氧化钛、氧化镁、氧化硅、氧化铬、或以上材质混合粉末。而在镀膜的过程中，该反应腔11内会产生具有侵蚀性的酸性或碱性离子，而与一般阳极处理形成的薄膜相较，因为该熔射层32以熔射方法产生的该熔射层32具晶体结构，而有较佳的结构强度与抗酸碱性，因此本实用新型加热器10的承物座3具有较佳的抗侵蚀性。此外，在该镀膜设备I使用一段时间后，该承物面321会附着并沉积许多杂质，在维修清理时，是先将该承物面321上的杂质磨去后，再熔射产生另一层熔射层32，而无需耗损该基体31，因此该承物座3确实可达到延长使用寿命的目的。值得一提的是，在完成镀膜并将该待镀物12移开该承物座3后，该反应腔11中残留的离子会沉积在该承物座3的承物面321上，而因为本实用新型的承物面321是呈粗糙状，因此可提供更大的接触面积以抓取反应腔11中残留的离子，达到提高反应腔11洁净度的效果。而为了达到较佳的抓取效率并维持该承物面321结构的强度，因此所述承物面321的中心线平均粗度(Ra)以介于0. I微米至40微米最佳。
权利要求1.一种镀膜设备的加热器，可装设在一个反应腔内，并包含一个与该反应腔组装的支架、一个组装在该支架上的承物座，及一个可发热地安装在该支架内并传导地加热该承物座的加热件；其特征在于该承物座包括一个基体，及一个披覆在该基体上的熔射层，该熔射层具有一个朝上且粗糙地凹凸的承物面。
2.根据权利要求I所述的镀膜设备的加热器，其特征在于该熔射层的厚度介于5微米至500微米间。
3.根据权利要求I或2所述的镀膜设备的加热器，其特征在于该承物面的中心线平均粗度介于0. I微米至40微米间。
专利摘要一种镀膜设备的加热器，可装设在一个反应腔内，并包含一个与该反应腔组装的支架、一个组装在该支架上的承物座，及一个可发热地安装在该支架内的加热件。该承物座包括一个基体，及一个披覆在该基体上的熔射层。该熔射层具有一个朝上的承物面。该承物面呈粗糙地不规则凹凸。该加热件是利用传导的方式加热该承物座。在清理该加热器的表面时，是在磨除表面杂质后，再以熔射的方式在该基板上覆盖另一层熔射层，而可减少该加热器的厚度的损耗，进而提高该加热器的使用寿命。
文档编号C23C16/50GK202430284SQ20112056621
公开日2012年9月12日 申请日期2011年12月30日 优先权日2011年4月13日
发明者周峙丞, 张国钦, 王家炜 申请人:周业投资股份有限公司