技术编号：3389554
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及在等离子体溅射领域中的故障处理系统。尤其是，本发明涉及用于控制在溅射系统中使用的功率发生器的操作的故障处理系统及方法。背景技术 等离子体溅射处理在半导体、平板、数据存储、硬质合金涂层和工业玻璃涂层行业中被广为使用。在溅射处理中，材料的原子从靶材料中释放并淀积在衬底上。或者，在反应性的溅射处理中，材料的原子从允许原子与气体发生反应的靶材料释放以形成涂层，该涂层其后被淀积在衬底上。在半导体工业中可采用反应性溅射处理，例如，把电介质绝缘层(诸如氮化...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。