技术编号:3393181
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及氧化铟-氧化锡粉体,并涉及利用该粉体的溅射靶。背景技术 溅射是用于形成薄膜的众所周知的技术。在溅射技术中,通过对溅射靶进行溅射而形成薄膜。溅射技术被用于工业加工,因为可以方便地形成大表面积的薄膜,并且能够以高效率形成高性能的膜。近年来,各种溅射技术已为人所知,例如反应溅射;即在反应性气体中的溅射,和磁控溅射,它通过将磁体置于靶的背面实现了高速率的薄膜形成。在通过溅射得到的薄膜产品之中,氧化铟-氧化锡(In2O3-SnO2复合氧化物,下文中简称为I...
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