技术编号：33954796
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请属于光学曝光装备技术领域，具体涉及一种曝光装置。背景技术.在光学薄膜行业，为了让液晶层顺利取向，通常需要预涂一层各向异性的取向材料层，并对取向材料层进行线偏振uv曝光，使分子进行取向。当前，常规的曝光装置是通过线栅偏振器件(wire grid polarizer，wgp)来实现线偏振光的转换，但一套wgp只能产生一个固定角度的线偏振光，想要在基材上同时制备多种图案的取向产品，需要更换wgp，并重复进行多次光配向工艺流程，生产效率不足，且wgp透射率较低，uv光能量损耗较多，导致曝光效...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。