技术编号:33978988
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型属于半导体制造技术领域,具体涉及一种压差稳定型半导体制造无尘室。背景技术.专利公告号cna一种半导体无尘室,其具有立柱组成的框体结构,所述的框体结构的两侧均采用防静电围帘密封设置,所述的框体结构的正面一侧垂直设置若干垂帘;所述的框体结构正面垂帘一侧设置玻璃门;所述的框体结构的背部设置背板组件,所述的框体结构的上端设置顶板,所述的顶板上固定设置若干排风机。该半导体无尘室,结构简单,可以满足半导体的平稳加工,投入成本低,可以提高半导体加工的效率,提高经济效益,便于广...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。