技术编号:3401135
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种扩散器框架,尤其是一种用于一沉积腔内的扩散器且可方便安装及清洁的扩散器框架。背景技术在平面显示器的制程中由于需要在玻璃基板上制作晶体管组件,因此在制程中需要镀上不同的材质,诸如SiO2、SiNx、a-Si与n+a-Si等薄膜。目前多采用等离子体辅助化学气象沉积系统(PECVD,Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition)来成长。PECVD乃是于一真空系统中,在通入制程气体后以一等离子体机台激发等离子体...
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