技术编号:3403163
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于去除涂覆在诸如半导体晶片、液晶显示器基板等的 基板的外周部上的诸如有机膜的不需要的物质的方法。背景技术作为用于将诸如绝缘膜、有机保护层、聚酰亚胺的薄膜涂覆或沉积 在诸如例如半导体晶片、液晶显示器玻璃基板等的基板上的手段,已知多种方法/处理,如旋涂处理、利用CVD和PVD的薄膜沉积的方法等。 然而,在旋涂技术中,涂覆物质在基板的外周部上比在中央部分上涂覆 得更厚,从而,外周部肿胀。而且,在等离子CVD例如被用作CVD的 情况下,电场被集中在基板...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。