技术编号：3410296
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。靶材和内磁极本实用新型涉及半导体领域，尤其涉及一种适用于CPA型溅射设备的靶材和内磁极。背景技术传统的靶材通过内磁极和压条间接固定在CPA型溅射设备基座上，由于内磁极高度较高，导致靶材整体厚度大8mm)，但是厚度不均勻，靶材容易过早被击穿。实用新型内容基于此，有必要提供一种不易过早被击穿的靶材以及与所述靶材适配的内磁极。一种靶材，用于CPA型溅射设备，所述靶材截面为工字形，包括主体结构、起固定作用的并沿所述主体结构分别向两侧延伸的两个第一外结构以及作为靶源...
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