技术编号：3411770
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在直列式等离子体涂覆设备中借助等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)将多层式层和/或梯度层沉积到至少ー个基底上的方法，该直列式等离子体涂覆设备包括至少ー个加工室，其中在这些基底的输送方向上依次安排了至少两个単独的等离子体源。现在多层式层是例如被用于改进绝热性、増大反射或减小反射或另外用于不同载体材料上的热吸收。所用的载体主要是由不同材料构成的板或膜，并且这些在此情况下可以具有不同的尺寸和厚度。应用包括例如建筑玻璃的表面精整、在照明技术或太阳热能...
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