技术编号：3414661
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种镀膜承载架。背景技术现有的真空镀膜设备中，一次仅能对待镀件的一面进行镀膜，若需对待镀件进行双面镀膜，则必须将真空腔打开，利用人工对承载着待镀件的承载部进行翻面。这样会存在以下缺点第一，需进行两次抽真空的动作，比较耗费时间；第二，蒸镀时真空腔内的温度极高，因此人工翻面时，必须等到真空腔冷却后才可打开真空腔，将承载部取出，翻面后再将其放入真空腔内，延长了镀膜的加工时间；第三，要将真空腔打开两次，无法保持真空腔内的环境参数完全一致，导致待镀件两面的...
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