技术编号:3418925
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种蒸发器,特别涉及一种蒸发器输送系统,其包括 多个容器以增大用于蒸发液体和固体材料的表面积,该材料例如是在 化学气相沉积(CVD)、原子层化学气相沉积(ALCVD)和离子注入方法中 所用的液体和固体反应物。背景技术在半导体晶片处理中,化学气相沉积(CVD)被广泛用于制备薄膜 和涂层。由于CVD例如具有可提供高保形和高质量薄膜的能力,并且 处理时间相对较高,所以在许多方面中其是有利的沉积方法。此外, CVD在涂覆不规则形状基底中也是有利的,包括即...
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