在铜表面形成精氨酸自组装缓蚀膜的方法技术资料下载

技术编号:3419562

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本发明涉及一种。 假餘自组装膜(SAMs)是构膜分子通过分子间及其与基底材料间的化学作 用而自发形成的一种热力学稳定、排列规则的分子膜。将有机物分子在金 属表面形成致密、有序的自组装膜,可以阻止腐蚀介质对金属的腐蚀。铜 现在已广泛的应用到化工、机械制造和建筑工业等领域,因此,对铜的腐 蚀和保护的研究是非常必要的。到目前为止,通过自组装技术在铜表面形 成自组装膜的研究主要集中在含有巯基类和希夫碱类有机分子。然而,对 于环境保护的要求越来越高的今天,这些有毒性...
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