技术编号:3421862
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于半导体制造机械领域,特别涉及溅射金属膜机台。技术背景现有技术中的賊射金属膜机台(如美国瓦里安公司磁控溅射机台M2i), 如图1所示,包括用于进行工艺反应的腔体11、腔体11外接的Ar (氩)气 体管路12。 Ar气体管路12另一端连接厂务气体系统,使得厂务气体系统提供 的Ar气体进入腔体11。 Ar气体管路12串接一电磁阀121,腔体11还外接去 除腔体真空的N2(氮)气体管路13,管路13的另一端连接厂务气体系统, 使得厂务气体系统提供的用...
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