技术编号：3422747
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种真空镀膜装置。背景技术现有大量生产的镀膜方法，主要以大面积的旋转接触作离子源镀膜，其乃 以一镀膜转盘夹载一定数量的被镀物，再由外接的传动机制转动整组镀膜转盘， 使被镀物因受离子镀源喷发的离子风而达到镀膜的作用，其由 一真空锅炉中， 底层设一熔炉床，利用上、下层加热器，加热待镀物以及真空锅炉，再用电子 枪将熔炉床的镀膜源离子化，并喷发至上层的被镀物，被镀物置在旋转盘上， 旋转盘中间设有一转轴，可连结至外部利用马达带动，使之旋转，并以放置在台...
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