技术编号:3424497
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及Sn02系溅射靶以及使用该靶制备的溅射膜,具体来说, 涉及在平板显示器、触摸屏、太阳能电池等各种用途中为了确保透明电 极、防静电、电磁波屏蔽、阻气、热反射等各种膜功能而使用的Sn02 系賊射耙及其溅射膜。背景技术近年来,Sn02系薄膜在平板显示器、触摸屏、太阳能电池等广泛用 途中使用。该Sn02系薄膜在工业上主要是通过喷雾法或CVD法制备。 但是,这些方法不适合使膜厚大面积均匀,难以进行成膜工艺的控制, 并且成膜时需要高温,或生成污染物氯系气体,...
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