技术编号:3424823
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般地涉及半导体制造领域。更特别地,本发明涉及从半导体 处理室的至少一个表面清洁不希望有的物质的方法。背景技术通过化学蒸气沉积("CVD,,)或通过原子层沉积("ALD")在硅基质上沉 积物质,是在集成电路制造中的常见步骤。由于这些沉积技术的性质,想 要沉积在基质上的物质常常也无意地沉积在半导体处理室内的表面。必须 周期性的清洁这些在半导体处理室的各种表面的不希望有的物质的无意 沉积;否则它们可能积累或影响以后在同一室内执行的沉积步骤。因此, 为了维...
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