技术编号:3428995
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及研磨处理方法以及研磨处理装置,特别涉及在光学补偿薄 膜的制造工序中研磨处理取向膜时产生的尘埃的去除方法及矫正研磨布 的绒毛的调整方法。背景技术作为改善在液晶显示装置广泛使用的TN-LCD的视角的方法,已知有 在透明薄膜的取向膜上形成液晶性碟型化合物层的光学补偿薄膜。此时取 向膜通过在透明薄膜上形成取向膜形成材料层,并对该取向膜形成材料层 进行研磨处理而获得。研磨处理通过使将研磨布(研磨片)粘贴在研磨辊圆筒轴周面的研磨 辊相对于取向膜形成材料层的移...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。