研磨处理方法及研磨处理装置的制作方法

专利名称：研磨处理方法及研磨处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及研磨处理方法以及研磨处理装置，特别涉及在光学补偿薄 膜的制造工序中研磨处理取向膜时产生的尘埃的去除方法及矫正研磨布 的绒毛的调整方法。
背景技术：
作为改善在液晶显示装置广泛使用的TN-LCD的视角的方法，已知有 在透明薄膜的取向膜上形成液晶性碟型化合物层的光学补偿薄膜。此时取 向膜通过在透明薄膜上形成取向膜形成材料层，并对该取向膜形成材料层 进行研磨处理而获得。
研磨处理通过使将研磨布(研磨片)粘贴在研磨辊圆筒轴周面的研磨 辊相对于取向膜形成材料层的移动方向沿相反方向旋转，并使研磨布和取 向膜形成材料层物理摩擦来进行。因此，在研磨处理中，由于研磨辊和取 向膜形成材料层摩擦因此容易产生尘埃，存在因该尘埃附着在透明薄膜上 导致光学补偿薄膜的亮点缺陷，使液晶显示装置的显示质量降低的可能 性。
另外，研磨布的绒毛(pile)的方向各异，有时使用时将绒毛的方向 在不整齐的状态下固定。若使用这样的绒毛方向不均一的研磨辊，则研磨 处理后的取向膜的取向性的方向变得不均一，导致液晶显示装置的性能降 低。进而，若绒毛的方向各异，则清扫时微小片没有去除而容易残留，其 附着在取向膜上形成亮点缺陷。
由此，作为使研磨辊的绒毛的方向一致的调整方法，例如在下述专利 文献1中记载了研磨辊的调整方法，其特征在于使研磨辊的研磨布的绒毛 与具有金属表面的辊的金属表面接触而使绒毛的方向一致。
另外，作为去除在研磨处理产生的尘埃的方法，例如在专利文献2中， 记载了对研磨处理后的透明薄膜的表面通过除电装置除电后，使用表面除尘机或粘接辊去除尘埃的方法。另外，在专利文献3中记载了通过从非研 磨面侧照射具有高透射力的致电离射线(波长0.1 0.5nm的软X射线)而 将透明薄膜表面除电，并去除研磨处理中产生的尘埃的方法。进而，在专 利文献4中记载了将由研磨处理形成的取向膜通过湿式除尘装置进行湿式 除尘而去除取向膜表面的尘埃的方法。[专利文献l]日本特开2005-292430号公报；[专利文献2]日本特开平9-73081号公报；[专利文献3]日本特开平11-305233号公报；[专利文献4]日本特开2002-40245号公报。然而，在专利文献1中记载的研磨辊的调整方法在研磨前以及研磨布 的清扫后进行，在离线状态下进行。因此，使用时不能使不均一的绒毛的 方向一致。另外，近年来，由于液晶显示装置的高亮度化、高精细化使得对液晶 显示装置的显示质量的降低产生影响的亮点尺寸变小。因此，需要去除(除 尘)导致亮点的微小的尘埃。然而，专利文献2 4中记载的方法，与研磨 布的绒毛为非接触状态进行研磨布的除尘，因而没有充分地进行尘埃的去 除。然而，在与研磨布接触进行尘埃的去除的情况下，绒毛的方向性变得 不均一，且取向层的取向膜的方向性变得不均一。发明内容本发明鉴于上述情况而提出，其目的在于提供一种研磨处理方法及装 置，其通过高效率地去除研磨处理中产生的尘埃，且使研磨布的绒毛的方 向性在联机下一致，由此制造液晶显示装置的高亮度化、高精细化所要求 的高质量的光学补偿薄膜，并且实现研磨片的长寿命化从而能够提高生产 率。本发明的第一发明为了实现所述目的，提供了一种研磨处理方法，其 特征在于，具有取向膜形成工序，其使具备取向膜形成材料层的长条可 挠性薄膜在其长度方向上移动，同时使粘贴在研磨辊的研磨布以旋转状态 接触该取向膜形成材料层的表面而形成取向膜；研磨布除尘工序，其在使所述研磨布与所述长条可挠性薄膜接触后，使除尘部件接触所述研磨布的表面，去除附着在所述研磨布的尘埃；尘埃排气工序，其排气去除在所述 研磨布除尘工序中去除的尘埃。根据第一发明，在与研磨布接触而形成取向膜后，使除尘部件接触研 磨布的表面，去除附着在研磨布的尘埃，因此能够更加可靠地去除附着的 尘埃。另外，通过具有尘埃排气工序，能够对在研磨布除尘工序中去除的 尘埃进行排气，因此能够防止被去除的尘埃附着在研磨辊上。因此，使用 实施了研磨处理的长条可挠性带状物能够获得液晶显示装置的高亮度化、 高精细化所要求的高质量的光学补偿薄膜。进而，由于能够可靠地将研磨辊除尘，因此研磨辊上没有尘埃的累积， 能够实现研磨辊的长寿命化。第二发明以第一发明的研磨处理方法为基础，其特征在于具有使所述 研磨布的绒毛一致的研磨布矫正工序。在研磨布矫正工序中，由于与除尘部件接触而进行尘埃的去除，因此 研磨布的绒毛变得不均一。根据第二发明，通过设置研磨布矫正工序，即 使研磨布的绒毛变得不均一也能够使其均一化。因此，能够在不降低研磨 性能的情况下进行研磨处理。第三发明以第一发明或第二发明的研磨处理方法为基础，其特征在于 所述除尘部件具有导电性。根据第三发明，由于除尘部件具有导电性，因此尘埃容易附着在除尘 部件上，因此能够容易地进行从研磨布的尘埃的去除。第四发明以第一至第三发明中任一项所述的研磨处理方法为基础，其 特征在于所述除尘部件是板状或辊状。根据第四发明，由于除尘部件是板状或辊状，因此能够容易地进行附 着在研磨辊上的尘埃的去除。第五发明以第一至第四发明中任一项所述的研磨处理方法为基础，其 特征在于所述除尘部件的形状是刷状。根据第五发明，由于除尘部件的形状是刷状，因此能够使刷的前端插 入至研磨布的绒毛的内部，从而能够可靠地进行附着的尘埃的去除。第六发明以第一至第五发明中任一项所述的研磨处理方法为基础，其特征在于所述除尘部件的前端与所述研磨布的底布组织的距离为
0.05~5mm。
根据第六发明，通过将除尘部件的前端与研磨布的底布组织的距离限 制在上述范围，从而不会损伤研磨布的底布组织，且在后续的研磨布处理 工序中能够在均一化研磨布的绒毛的程度进行研磨处理工序。
第七发明以第一至第六发明中任一项所述的研磨处理方法为基础，其 特征在于还具有除电工序和非接触的除尘工序。
根据第七发明，由于还具有除电工序和非接触的除尘工序，从而能够 通过除电工序降低长条可挠性薄膜的带电压力，因此能够防止静电力的作 用下尘埃的附着。另外，通过具有非接触的除尘工序，从而能够在不会使 研磨布的布纹杂乱的情况下，进行附着在研磨布上的尘埃的去除。
第八发明以第二至第七发明中任一项所述的研磨处理方法为基础，其 特征在于同时进行所述研磨布除尘工序和所述研磨布矫正工序。
根据第八发明，能够同时进行研磨布除尘工序和研磨布矫正工序。
本发明的第九发明为了实现所述目的，提供了一种研磨处理装置，其 中，所述研磨处理装置在具有取向膜形成材料层的长条可挠性薄膜上形成
取向膜，所述研磨处理装置具备在周面粘贴有研磨布的研磨辊；去除附 着在所述研磨布的尘埃的除尘部件；对从所述研磨布除尘的尘埃进行排气
的尘埃排气装置。
第十发明以第九发明的研磨处理装置为基础，其特征在于具备使所述 研磨布的绒毛一致的矫正部件。
第十一发明以第九发明或第十发明的研磨处理装置为基础，其特征在 于所述除尘部件具有导电性。
第十二发明以第九至第十一发明中任一项所述的研磨处理装置为基 础，其特征在于所述除尘部件是板状或辊状。
第十三发明以第九至第十二发明中任一项所述的研磨处理装置为基 础，其特征在于所述除尘部件的形状是刷状。
第十四发明以第九至第十三发明中任一项所述的研磨处理装置为基 础，其特征在于所述除尘部件的前端与所述研磨布的底布组织的距离为
0.05 5mm。第十五发明以第九至第十四发明中任一项所述的研磨处理装置为基 础，其特征在于还包括除电装置和非接触的除尘装置。第九至第十五发明是将第一至第八发明所述的研磨处理方法作为研 磨处理装置扩展而成，根据第九至第十五发明，能够获得与研磨处理方法 相同的效果。根据本发明，使用研磨辊形成取向膜后，使用除尘部件与粘贴在研磨 辊的研磨布接触而去除尘埃，因此能够可靠地进行尘埃的去除。进而，通 过接触，并通过具有使杂乱的研磨布的绒毛一致的研磨布矫正工序，能够 在绒毛一致的状态下进行研磨处理，从而能够制造高质量的光学补偿薄 膜。


图1是示意地表示本发明的研磨处理装置的结构图。图2是图1的刮板和研磨布的放大图。图3是示意地表示本发明的研磨处理装置的其他方式的结构图。 图4是示意地表示本发明的研磨处理装置的又一其他方式的结构图。 图5是示意地表示本发明的研磨处理装置的又一其他方式的结构图。 图6是表示实施例的结果的图表。符号说明10、 40、 50-研磨处理装置，12-透明薄膜，14-辊，16-研磨 辊，21-超声波除尘装置，22-除电装置，24-矫正部件，26-刮板，28-研磨 布，30-底布组织，32-绒毛线，34-尘埃排气装置，36-刷辊，38-辊。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的研磨处理方法以及研磨处理装置的优选实 施方式进行说明。图1是表示本发明的实施方式的研磨装置10的结构的示意图。如该 图所示，研磨处理装置10是使研磨辊16与透明薄膜(相当于长条可挠性 薄膜)12接触而进行研磨处理的装置，透明薄膜12在其上表面被一对辊 14、 14按压的状态下移动。透明薄膜12的下表面形成取向膜形成材料。首先，本发明的研磨处理方法具有使粘贴在研磨辊16的研磨布28与透明薄膜12的取向膜形成材料层接触而形成取向膜的取向膜形成工序。
取向膜形成材料层只要是透明且能够通过取向处理被取向的材料即 可。作为取向膜形成材料层的形成材料的例子，可以举出聚甲基丙烯酸甲 酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/顺丁烯二酰亚胺共聚物、聚乙烯
醇、聚(N-羟甲基丙烯酰胺)、苯乙烯/乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、 硝化纤维素、聚氯乙烯、氯化聚烯烃、聚酯、聚酰亚胺、乙酸乙烯共聚物、 乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纤维素、聚乙烯、聚丙烯以及聚碳酸酯等 的聚合物以及有机硅烷偶合剂等化合物。作为优选的聚合物的例子，可以 举出聚酰亚胺、聚苯乙烯、苯乙烯衍生物的聚合物、明胶、聚乙烯醇或聚 乙烯醇衍生物。取向膜形成材料层的形成材料有效增加具有聚合性基的物 质与液晶层的接合强度。
研磨辊16与透明薄膜12的取向膜形成材料层接触配置。g卩，研磨辊 16在透明薄膜12的下侧且在透明薄膜12的下表面以规定的研磨角度(例 如4 2(T )卡合配置。该研磨辊16将研磨布28粘贴在圆筒轴上而形成， 其外径为100~500mm，优选以150~300mm制造。作为研磨布28可以举 出由橡胶、尼龙、聚酯等得到的片、由尼龙纤维、人造纤维、聚酯纤维得 到的片(丝绒等)、纸、纱布、毛毡等。
研磨辊16连接在未图示的旋转驱动源，被控制为在与透明薄膜12的 移动方向相反方向上以规定的速度(例如200 600rpm)旋转。由此，输 .送状态的透明薄膜12的取向膜形成材料层和研磨辊16的表面在接触点P 处摩擦，对取向膜形成材料层进行研磨处理，形成取向膜。此外，优选研 磨辊16的旋转速度可以控制在规定的范围例如不超过1000rpm左右的范 围。另外，研磨辊16或辊14优选安装能够测定透明薄膜12的宽度方向 的张力差的张力测定器，将其张力差控制在规定的范围内(例如0.1N/cm 以下)。
在本发明中，形成取向膜后，具有去除研磨布28的尘埃的研磨布除 尘工序。通过去除研磨布28的尘埃，能够防止接下来形成取向膜时，尘 埃附着在透明薄膜12上，因此能够制造良好的外观的薄膜。
作为研磨布除尘工序，例如，可以使用刮板26作为图1所示的除尘 部件。刮板26相对于研磨辊16的旋转方向，设置在接触点P的下游侧。刮板26通过与研磨布28接触，能够去除附着在研磨布28的尘埃。
图2是图1的研磨处理装置的刮板26与研磨布28的放大图。研磨布 28由底布组织30和绒毛线32形成，即使由取向膜形成工序产生的尘埃进 入绒毛线32彼此之间，也能够通过刮板26容易地将其去除。刮板26和 研磨布28的距离优选为刮板26的前端与研磨布的底布组织30的距离H 为0.05 5mm。通过将刮板26和底布组织30的距离设为上述范围，从而 能够容易地进行附着在绒毛线32之间的尘埃的去除。另外，优选使刮板 26和研磨布28之间的范围维持在上述范围的同时进行振动。通过振动使 得刮板26和绒毛线32的接触部位变得不固定，因此更加容易进行去除。 另外，优选作为除尘部件的刮板具有导电性。通过对除尘部件赋予导 电性，使得尘埃容易附着在除尘部件上，因此能够进行附着在研磨布的尘 埃的去除。
进而，在本发明中，图1的研磨处理装置10具备排气装置34。排气 装置34能够防止由研磨布除尘工序去除的尘埃再次附着在研磨布上，因 此能够制造质量更加良好的光学补偿薄膜。
进而在图1中，相对于研磨辊16的旋转方向，在刮板26、尘埃排气 装置34的下游侧具备矫正部件24。在取向膜形成工序中，通过使刮板26 和研磨布28的绒毛线32接触，能够通过矫正部件24使杂乱的绒毛线32 的方向性一定，因此能够制造质量良好的光学补偿薄膜。作为矫正部件24 可以使用金属表面辊。金属表面的材质优选使用不锈钢、镀硬铬、镀镍、 钛、玻璃等。
如上所述，本发明中，与在非接触的情况下，进行不充分的尘埃的去 除的现有情况相比，通过使用作为除尘部件的刮板26使研磨布28和刮板 26接触，能够更加可靠地进行尘埃的去除。进而，由于具备尘埃排气装置 34，因此能够防止在研磨布除尘工序中，从研磨布去除的尘埃再次附着在 研磨布上。另外，通过具备矫正部件24，从而能够使因刮板26而杂乱的 绒毛线的绒毛一致。因此，能够制造更加高质量的光学补偿薄膜。
进而，本发明的研磨处理装置可以设置非接触式的除尘装置。作为这 种非接触式的除尘装置可以使用吹出超声波振动的压縮空气而进行吸引 的超声波除尘装置21。另外，超声波除尘装置的个数在图1中具备3个，但其个数可以没有特别限定地设置。
另外，为了去除研磨辊的尘埃，也可以设置除电装置22。除电装置 22是利用空气离子来中和静电的装置，空气离子的生成方法有"光照射式" 和"电晕放电式"。光照射方式利用软X射线产生空气离子，电晕放电式 利用电晕放电现象生成空气离子。通常而言，已知有"除电刷"、"吹风型 除电装置"、"棒状除电装置"、"高密度除电装置"、"软X射线除电装置"。 棒状除电装置最适合用于薄膜等想对大范围进行除电的情况。高密度除电 装置设置有直流除电装置以及交流除电装置，由生成正负离子的交流除电 装置和与其对置的平板电极(离子吸引电极)构成除电栅极。薄膜通过该 除电栅极的过程中对薄膜表面强制地交替照射正负离子，去除正负电解闭 合状态的带电模式，其后，在直流除电装置和交流除电装置中除电至零电 位。软X射线除电装置通过向空气中放射波长长的X射线而产生的空气 离子去除静电，不仅对薄膜表面，对里面也具有除电效果。
图3、图4以及图5是示出了表示又一其他实施方式的研磨处理装置 的结构的图。图3所示的研磨处理装置40在不同的位置具备作为除尘部 件的刮板26这一点与图1所示的研磨处理装置10不同。另外，图4所示 的研磨处理装置50使用刷辊36作为除尘部件。另外，图5所示的研磨处 理装置60可以使用兼作除尘部件和矫正部件的辊38。作为除尘部件使用 如图1、 3所示的板状的刮板26、或者使用如图4所示的辊状的刷辊36 都能够获得同样的效果。另外，如图5所示，也可以使用兼作除尘部件和 矫正部件的辊。
接下来，对研磨处理装置10的作用进行说明。
在研磨处理装置10中，由于透明薄膜12与粘贴在研磨辊16上的研 磨布28接触而产生尘埃。若该尘埃附着在透明薄膜12上而向后续的装置 (例如在取向膜上涂敷含有液晶性碟型化合物的涂敷液的涂敷工序等)输 送，则将成为导致光学补偿薄膜的亮点缺陷的原因。另外，不仅透明薄膜 12的表面，在研磨布28的表面附着尘埃的情况也同样如此，存在使研磨 处理的性能降低而成为导致光学薄膜的亮点缺陷的原因、或者尘埃从研磨 布28转移到透明薄膜12上而成为导致亮点缺陷的原因的可能性。
因此，在研磨处理装置10中设置刮板26作为除尘部件，通过使该刮板26与研磨布28接触，而进行附着在研磨布28的尘埃的去除。另外， 使用作为现有方法的超声波除尘装置21进行除尘，与现有的非接触的除 尘方法相比，能够更有效地进行除尘。
进而，在本实施方式的研磨处理装置10中，在刮板26、尘埃排气装 置34之后设置矫正部件24，能够使因与刮板26接触除尘而杂乱的研磨布 28的绒毛一致。由此，能够在绒毛一致的状态下进行研磨处理，因此能够 在不降低形成的取向层的研磨性能的情况下进行研磨处理。另外，由于能 够使附着在研磨布28的尘埃比现有的研磨处理装置少，因此能够防止因 附着在研磨布28的尘埃导致研磨性能下降、或研磨辊16的尘埃转移到透 明薄膜12的情况。因此，根据本实施方式，能够形成没有尘埃附着、实 施了高质量的研磨处理的取向膜，因此通过使用该透明薄膜12制造光学 补偿薄膜，能够提供亮点缺陷少的高质量的光学补偿。
(具备了取向膜形成材料层的长条可挠性带状物的制作) 在三醋酸纤维素(FUJITAC膜(7-夕:y夕)、富士胶片株式会社制、 厚度100um、宽度500mm)的长条状薄膜的一侧涂敷长链烷基改性 聚乙烯醇(MP-203，可乐丽(KURARAY)株式会社制)5重量％的水溶 液，使其在9(TC干燥4分钟。这样，形成了厚度2.0um的取向膜形成材 料层。
(取向膜形成材料层的研磨处理)
对具备取向膜形成材料层的长条可挠性薄膜使用图1的装置在取向膜 形成材料层表面实施研磨处理。具备了取向膜形成材料层的透明薄膜沿箭 头方向连续地以20m/分输送。透明薄膜被辊(辊外径90mm、长度-1650mm)从上部按压的同时输送，使从下侧按压的研磨辊(外径300mm) 在与移动方向相反的方向以400rpm旋转，同时使粘贴在圆筒轴的研磨布 (丝绒)与取向膜形成材料层接触而实施研磨处理。
研磨辊在实施研磨处理期间，使刮板作为除尘部件与研磨辊的表面接 触而去除附着在研磨布的尘埃。刮板通过接地赋予防静电性。另外，刮板 的前端和底布组织的距离设为1.5mm。进而，将与除尘部件接触而去除的尘埃通过尘埃排气装置排出。另外，在图1所示的3个部位通过非接触的 除尘装置进行尘埃的去除。作为除尘装置以振幅20mm、速度5mm/秒在 研磨辊侧面平行地反复移动。使用作为非接触的除尘装置使用超声波除尘 器(新型超精密除尘器(UVU-W型)、伸兴株式会社制)，在顶部压力为 40kPa，超声波除尘器的吹出风速为220m/秒，辊表面和除尘器前端的距离 为3mm情况下进行除尘。进而，从研磨辊的移动方向的上游侧第二个位 置的除尘装置后，设置研磨布纹(绒毛)矫正部件，使研磨布的取向性一 致。
还有，除尘部件和底布组织的距离设置时由塞尺(厚度计)测定。 [实施例2~14、比较例1]
除将除尘部件的条件、研磨处理装置的条件改变为图6所示的条件以 外，采用与实施例1相同的方法进行研磨处理。 [试验结果]
对实施例1~6以及比较例1的研磨处理后的透明薄膜的亮点缺陷根据 使用CCD相机的面状检查装置的亮点发生频率进行评价。结果如图6所 示。此外，表中的记号，如下所述。
0)-u质量高
〇-''质量在允许范围内
A-u质量允许限度
X-〃质量在允许范围外
没有设置尘埃排气装置的比较例1、 3以及没有设置除尘部件的比较 例2的薄膜的质量不在可允许的范围内。在设置除尘部件和尘埃排气装置、 设置布纹矫正部件、对除尘部件赋予导电性、设置除尘装置以及非接触的 除尘装置的实施例中，能够获得高质量的薄膜，但在没有设置上述任意一 个结构的实施例3、 4、 17、 18中，与全部设置的实施例相比也能够获得 稍差但在允许范围内的质量的薄膜。
除尘部件的形状为任意一种形状都能够获得良好的薄膜。另外，关于 部件和底布组织间的距离，在0.05 5mm范围之外的实施例15、 16也能够 获得允许范围内的质量的薄膜，在0.05~5mm范围内的实施例能够获得质 量高的薄膜。
权利要求
1.一种研磨处理方法，其特征在于，具有取向膜形成工序，其使具备取向膜形成材料层的长条可挠性薄膜在其长度方向上移动，同时使粘贴在研磨辊的研磨布以旋转状态接触该取向膜形成材料层的表面而形成取向膜；研磨布除尘工序，其在使所述研磨布与所述长条可挠性薄膜接触后，使除尘部件接触所述研磨布的表面，去除附着在所述研磨布的尘埃；尘埃排气工序，其排气去除在所述研磨布除尘工序中去除的尘埃。
2. 根据权利要求1所述的研磨处理方法，其特征在于， 具有使所述研磨布的绒毛一致的研磨布矫正工序。
3. 根据权利要求1或2所述的研磨处理方法，其特征在于， 所述除尘部件具有导电性。
4. 根据权利要求1~3中任一项所述的研磨处理方法，其特征在于， 所述除尘部件是板状或辊状。
5. 根据权利要求1~4中任一项所述的研磨处理方法，其特征在于， 所述除尘部件的形状是刷状。
6. 根据权利要求1~5中任一项所述的研磨处理方法，其特征在于， 所述除尘部件的前端与所述研磨布的底布组织的距离为0.05 5mm。
7. 根据权利要求1 6中任一项所述的研磨处理方法，其特征在于， 还具有除电工序和非接触的除尘工序。
8. 根据权利要求2 7中任一项所述的研磨处理方法，其特征在于， 同时进行所述研磨布除尘工序和所述研磨布矫正工序。
9. 一种研磨处理装置，其中，所述研磨处理装置在具有取向膜形成材料层的长条可挠性薄膜上形 成取向膜，所述研磨处理装置具备 在周面粘贴有研磨布的研磨辊； 去除附着在所述研磨布的尘埃的除尘部件； 对从所述研磨布除尘的尘埃进行排气的尘埃排气装置。
10. 根据权利要求9所述的研磨处理装置，其特征在于，具备使所述研磨布的绒毛一致的矫正部件。
11. 根据权利要求9或10所述的研磨处理装置，其特征在于，所述除尘部件具有导电性。
12. 根据权利要求9 11中任一项所述的研磨处理装置，其特征在于,所述除尘部件是板状或辊状。
13. 根据权利要求9~12中任一项所述的研磨处理装置，其特征在于，所述除尘部件的形状是刷状。
14. 根据权利要求9 13中任一项所述的研磨处理装置，其特征在于，所述除尘部件的前端与所述研磨布的底布组织的距离为0.05 5mm。
15. 根据权利要求9 14中任一项所述的研磨处理装置，其特征在于，还包括除电装置和非接触的除尘装置。
全文摘要
本发明提供一种通过去除研磨处理中产生的尘埃，且使研磨布的绒毛的方向性在联机下一致，并且实现研磨片的长寿命化从而能够提高生产率的研磨处理方法及研磨处理装置。所述研磨处理方法的特征在于，具有使具备取向膜形成材料层的长条可挠性薄膜(12)在其长度方向上移动，同时使粘贴在研磨辊(16)的研磨布(28)以旋转状态接触取向膜形成材料层的表面而形成取向膜的取向膜形成工序；在使研磨布(28)与长条可挠性薄膜(12)接触后，使除尘部件(26)接触研磨布(28)的表面，去除附着在研磨布(28)的尘埃的研磨布除尘工序；排气去除在研磨布除尘工序中去除的尘埃的尘埃排气工序。
文档编号B24B29/02GK101602179SQ200910147029
公开日2009年12月16日 申请日期2009年6月8日 优先权日2008年6月9日
发明者伊藤秀知, 村上大 申请人:富士胶片株式会社