技术编号：34306160
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及等离子体清洗设备技术领域，尤其涉及微波等离子体清洗装置。背景技术.微波等离子清洗技术可应用于材料表面改性、刻蚀及清洗；等离子化学气相沉积、溅射等领域。微波等离子体清洗设备主要由真空系统、水冷系统、控制系统、微波源和波导耦合系统组成，比较容易生成临界密度以上的稳定、高密度的等离子体，激发的等离子体中活化基团数量较高，没有电极放电不会产生电极污染。然而，市面上的微波真空等离子体清洗设备普遍是通过波导管传输，体积大，结构笨重，且一般都为单口馈入，生成的等离子体云面积小且主要集中在馈口处...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。