技术编号:3439635
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明总体上涉及一种,更具体而言,本发明涉及一种利用激光束的铊的激光同位素分离方法。背景技术 就性质而言,铊包含两种同位素,包括203Tl(29.5%)和205Tl(70.5%)。203Tl被用作产生放射性同位素201Tl的源材料。201Tl是在回旋加速器中利用19~31MeV的质子束对浓缩的203Tl靶进行辐照,按照203Tl(p,3n)201Tl反应而生成。201TlCl是一种用于诊断心脏病和肿瘤的SPECT(单光子发射计算机断层成像技术)的放射性药物...
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