技术编号:34613205
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种分子量窄分布且高透光性phs树脂及其合成方法与应用技术领域.本发明涉及一种分子量窄分布且高透光性phs树脂及其合成方法与应用,属于高分子材料领域。背景技术.光刻胶是大规模集成电路工业中进行光刻过程的关键功能材料,其中含有的成膜树脂又是光刻胶中的重要组成部分,成膜树脂的化学及物理性能直接影响光刻胶在大规模集成电路工业中的使用效果。.通常来讲,成膜树脂的光学密度值越低,说明其光透过性越好,曝光时越灵敏,残膜率也越低,因此光透过性(光学密度)已经成为光刻胶树脂性能评价中非常重要的参考指标之一...
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