技术编号:34662290
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及照射模块和包括所述照射模块的基板处理设备,并且更具体地,涉及包括将光照射到基板上的照射模块的基板处理设备。背景技术.用于在晶片上形成图案的照相工艺包括曝光工艺。曝光工艺是用于将粘附在晶片上的半导体集成材料刮成所需图案的初步操作。曝光工艺可以具有多种目的,诸如形成用于蚀刻的图案和形成用于离子注入的图案。在曝光工艺中,通过使用作为一种“框架”的掩模在晶片上用光绘制图案。当晶片上的半导体集成材料,例如晶片上的抗蚀剂暴露于光时,抗蚀剂的化学性质根据通过光和掩模的图案而改变。当向其化学性质...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。