技术编号:3469285
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种多晶硅生产装置,主要涉及多晶硅氢还原炉。 背景技术在多晶硅生产中,还原炉是其主要设备,而还原炉的进气喷口是 多晶硅氢还原炉的极重要组成元件,他的喷口喷速和分布对硅棒的生 长和沉积状况有着重大影响。现有技术中,多晶硅氢还原炉大多釆用 固定截面积喷口,而且喷口和进气管是一体的,并未做明显区分。这 种结构在物料气体流量相同的情况下,无法改变喷口喷速和进气位置, 从而无法通过以改变喷口喷速和进气位置的方式来实现改变还原炉 内气场和温度场的分布。在...
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