技术编号:3469756
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。氟化的气态化合物,例如,NF3> IF5, IF7, CIF3、WF6等,作为CVD装置、PVD装置等的 半导体制造装置的内部清洗剂使用。对于高效率地生产这些气体化合物用的方法,进行了 各种研究。另外,前述NF3、IF5,IF7、cif3、WF6,是在本发明中作为例子列举出来的氟化反应 完全进行的物质。背景技术例如,本申请人,提出了使液体状的氨络合物与气态的CIF3等的卤间化合物反应, 合成用化学式NFXL3_X(L是F之外的卤素,表示的气态的卤化氮...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。