技术编号:3474061
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,包括将铜源溶于含有络合剂和含硫小分子试剂的醇溶液中,加入一定的粘度调节剂,形成澄清透明且稳定的前驱体溶液;将所述前驱体溶液通过非真空薄膜沉积工艺在衬底上沉积为前驱体薄膜并加热烘干;以及将所述前驱体薄膜在硫族元素气氛下于300~650℃退火20~200分钟形成硫化亚铜薄膜。本发明以氧化铜、氧化亚铜、氢氧化铜、和/或乙酰丙酮铜为铜源,不会在薄膜中引入阴离子杂质。而且,由于加入络合剂、粘度调节剂等,使得前驱体溶液澄清透明且稳定,从而制备过程均能在空气...
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