技术编号：35062378
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及杂质检测技术领域，特别涉及一种高纯钽中痕量杂质元素测定方法。背景技术.化学杂质的含量是电容器用钽粉的重要指标，其含量高低直接影响电容器漏电流大小、闪光电压高低及产品的可靠性和寿命的长度，因此，准确高效测定钽粉中的化学杂质就显得尤为重要。.高纯钽基的纯度极高，其他化学杂质元素含量很低，杂质含量范围为-个ppm。采用传统的测试方法为水样制作方法，样品含量较低，容易受设备状态、试剂及所用水纯度、试验所用仪器器皿等外界因素的影响，制样过程过长，为消除基体效应，溶样时需排除残余hf...
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