技术编号:3509935
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。本发明要求2007年11月19日在日本提出的特愿2007-299527号、2008年3年21 日在日本提出的特愿2008-74466号以及2008年9月25日在日本提出的特愿2008-246643 号的优先权,在此引用其内容。背景技术在光刻技术中进行如下工序例如在基板上形成由抗蚀剂材料形成的抗蚀剂膜, 利用形成了...
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