技术编号:3514735
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及新型高金刚烷衍生物、(甲基)丙烯酸酯、它们的制备方法、(甲基)丙烯酸系聚合物、正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形成方法。背景技术近年来,随着半导体元件的不断微细化,在其制备的光刻步骤中要求更加微细化。对使用对应KrF、ArF或F2准分子激光等短波长的照射光的光致抗蚀剂材料,形成微细图案的方法进行了各种研究,希望开发出可以对应准分子激光等短波长的照射光的新光致抗蚀剂材料。作为光致抗蚀剂材料,以往开发了大量基于酚树脂的材料,但因这些材料含有芳族环,光的吸...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。