技术编号:3526648
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。,其共聚物和使用该共聚物的组合物的制作方法本发明涉及用于制备光致抗蚀剂共聚物的新型单体,其共聚物,和从共聚物制备的光致抗蚀剂组合物。更具体地说,它涉及该新型单体,共聚物以及一种适合曝光于光谱的远紫外区中光线的光致抗蚀剂组合物。使用远紫外光、尤其使用ArF辐射的光敏膜必需满足几个要求;它必须在193nm的波长下具有低的吸光率,具有优异的耐刻蚀性能和粘附于基材的性能,并能够在2.38%或2.6%氢氧化四甲基铵(下面简写为TMAH)的水溶液中显影。迄今为止,研究...
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