技术编号：35352720
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及作为半导体制造装置、平板显示器制造装置、太阳能面板制造装置中的工艺腔室或其他腔室的气体排出机构使用的真空泵和其旋转体，特别涉及能够有效地防止旋转体的应力腐蚀破裂、耐腐蚀性优异的真空泵和其旋转体。背景技术.以往，作为这种真空泵，已知有例如在专利文献中记载的涡轮分子泵。同文献的涡轮分子泵(以下称作“以往的真空泵”)为通过具备多个旋转叶片(动叶片)的旋转体(泵转子)的旋转将气体排出的构造。.另外，在以往的真空泵中，欲通过在旋转体(泵转子)的表面上设置黑ni镀层的表面处理...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。