技术编号:35389656
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及ald镀膜技术领域,尤其涉及出气板及进气装置。背景技术.ald(原子层沉积)技术是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应室并在沉积基体上发生表面化学反应形成薄膜的一种技术,该技术是将物质以单原子膜的形式一层一层地沉积在基体表面。ald的进气装置是ald设备的核心组件之一,会影响沉积效果。.进气装置通常用于将不同的气体进行均匀混合,但是有机源气体和氧源气体在高温中会发生反应,产生粉尘,在实际使用过程中,不同的气体在反应室中反应后经过出气孔流出,少量气体横向窜动在出气板的表面也可能...
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