技术编号：3555463
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及新颖的脂环族不饱和化合物及其聚合物。更特别地，本发明涉及适用于以至多波长190nm的远紫外光作为照射光的化学增幅抗蚀剂，并涉及采用所述聚合物的化学增幅抗蚀剂组合物，以及采用所述抗蚀剂组合物形成图案的方法。背景技术 在以半导体设备为代表的须以约四分之一微米进行微制造的各种电子设备的生产领域中，已逐渐要求生产具有更高密度和集成度的设备。因而，用于形成微图案的光学腐蚀技术正面临越来越严格的要求。特别地，在具有1G比特或更高集成度、需要约至多0.13微米...
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