技术编号：35579802
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及向基板供给处理液来处理该基板的基板处理技术。.以下所示的日本申请的说明书、附图以及权利要求书中的公开内容通过参照将全部内容并入本文：.日本特愿－(年月日申请)。背景技术.已知一边使半导体晶圆等基板旋转一边向该基板供给处理液来实施药液处理、清洗处理等的基板处理装置。在例如日本特开－号公报记载的装置中，为了将从旋转的基板飞散的处理液等捕集回收，设有飞散防止部。飞散防止部具有固定地配置成包围旋转的基板的外周的防溅罩(有时称为“杯”)...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。