基板处理装置的制作方法

本发明涉及向基板供给处理液来处理该基板的基板处理技术。以下所示的日本申请的说明书、附图以及权利要求书中的公开内容通过参照将全部内容并入本文：日本特愿2022－46649(2022年3月23日申请)。

背景技术：

1、已知一边使半导体晶圆等基板旋转一边向该基板供给处理液来实施药液处理、清洗处理等的基板处理装置。在例如日本特开2017－11015号公报记载的装置中，为了将从旋转的基板飞散的处理液等捕集回收，设有飞散防止部。飞散防止部具有固定地配置成包围旋转的基板的外周的防溅罩(有时称为“杯”)。防溅罩的内周面与基板的外周对置，捕集从旋转的基板甩出的处理液的液滴。

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、然而，防溅罩捕集液滴时，液滴与防溅罩的内周面碰撞。由于该碰撞，有时产生跳回液滴。当跳回液滴再次附着于基板上时，产生水印。另外，至防溅罩外的跳回液滴的飞散为污染周围气氛的主要原因之一。因此，在上述基板处理装置中，为了良好地处理基板，抑制跳回液滴的飞散是重要的。因此，为了实现该目的，考虑使防溅罩随着基板的旋转而旋转。

3、但是，对于现有装置，当追加使防溅罩旋转的专用的旋转机构时，不仅装置成本增大，而且需要同时控制防溅罩及基板的旋转。存在难以稳定地进行基板处理的情况。

4、本发明鉴于上述课题而作成，目的在于，在向旋转的基板供给处理液来处理基板的基板处理装置中，成本低，且抑制跳回液滴，稳定地处理基板。

5、用于解决课题的方案

6、本发明为一种基板处理装置，其特征在于，具备：基板保持部，其设置为能够一边吸附并保持基板的下表面中央部，一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转；旋转机构，其输出用于使基板保持部旋转的旋转驱动力；处理机构，其向保持于上述基板保持部的上述基板供给处理液来处理上述基板；以及旋转杯部，其设置为能够包围旋转的上述基板的外周，并且，绕上述旋转轴旋转，且捕集从上述基板飞散的上述处理液的液滴，上述旋转机构还具有将上述旋转驱动力的一部分作为杯驱动力传递至上述旋转杯部的动力传递部，通过上述旋转驱动力使上述基板保持部及上述旋转杯部同时进行旋转。

7、在这样的结构的发明中，从旋转机构输出用于使保持基板的基板保持部旋转的旋转驱动力。该旋转驱动力的一部分通过动力传递部作为杯驱动力传递至上述旋转杯部。从而，通过旋转驱动力，使基板保持部及上述旋转杯部同时进行旋转。

8、发明的效果

9、根据本发明，能够低成本且抑制跳回液滴而稳定地处理基板。

10、上述的本发明的各方案所具有的多个结构要素并非全部是必须的，为了解决上述课题的一部分或全部，或者为了实现本说明书所记载的效果的一部或全部，对于上述多个结构要素的一部分结构要素，可以适当地进行变更、删除、与新的其它结构要素的替换、限定内容的一部删除。另外，为了解决上述课题的一部分或全部，或者为了实现本说明书所记载的效果的一部或全部，也可以将上述的本发明的一方案所含的技术特征的一部分或全部与上述的本发明的其它方案所含的技术特征的一部分或全部组合而形成本发明的独立的一方案。

技术特征：

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

技术总结
本发明提供向旋转的基板供给处理液来处理基板的基板处理装置，其成本低，且抑制跳回液滴，稳定地处理基板。本发明具备：基板保持部，其设置为能够一边吸附并保持基板的下表面中央部，一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转；旋转机构，其输出用于使基板保持部旋转的旋转驱动力；处理机构，其向保持于基板保持部的基板供给处理液来处理基板；以及旋转杯部，其设置为能够包围旋转的基板的外周，并且绕旋转轴旋转，且捕集从基板飞散的处理液的液滴。旋转机构还具有将旋转驱动力的一部分作为杯驱动力传递至旋转杯部的动力传递部，通过旋转驱动力使基板保持部及旋转杯部同时进行旋转。

技术研发人员：根本脩平,正司和大,村元僚
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15